2026深圳國際光刻膠產業(yè)技術展覽會

PCB光刻膠展覽會 LCD光刻膠展覽會 半導體光刻膠展覽會

時間：2026年6月10-12日

地點：深圳國際會展中心

█展會背景

光刻膠是電子領域微細圖形加工的關鍵性材料，被譽為半導體材料皇冠上的明珠，在半導體、新型顯示、印制電路板等泛半導體領域的生產中具有重要作用。隨著全球對半導體技術依賴程度的加深，光刻膠的重要性愈加凸顯。目前我國光刻產業(yè)的發(fā)展面臨著諸多挑戰(zhàn)。在光刻膠領域，國內高端光刻膠自給率低，研發(fā)和生產技術與國際先進水平有差距，產品性能和質量難以滿足高端芯片制造需求。濕電子化學品方面，部分高純度、特殊配方產品依賴進口，供應受限。掩模版的高精度制造技術難度大，高端掩模版原料主要依賴進口，供應受制于人，其快速修復和更新技術有待提升。光刻機更是被國外壟斷，高端光刻機如EUV光刻機難以獲得，國內光刻機企業(yè)在技術水平、制造精度、光源系統(tǒng)等方面與國際先進水平存在較大差距，成為制約我國半導體產業(yè)發(fā)展的“卡脖子”環(huán)節(jié)。

為推動國內高端光刻膠技術創(chuàng)新，加快核心技術突破與產業(yè)化應用，同時加強下游需求應用與科研、產業(yè)企業(yè)的協(xié)同研發(fā)、技術交流。2026深圳國際光刻膠產業(yè)技術展覽會將圍繞集成電路、新型顯示、PCB領域高性能光刻膠以及光刻膠專用樹脂、光引發(fā)劑、顏料等原料技術與設備全方面展示和產學研用技術交流。是國內最主要的光刻膠領域行業(yè)盛會，一年一屆。大會已成為推動國內高端光刻膠技術創(chuàng)新、加快核心技術突破與產業(yè)化應用、加強產學研用深度融合的重要平臺，在行業(yè)產生了廣泛的影響力。

█日程安排：

報到布展：2026年6月8-9日      展出時間: 2026年6月10-12日

█頂級盛會（大會設贊助、協(xié)辦單位，詳情請致電組委會）

品牌展示 高層論壇 行業(yè)用戶洽談會 外商采購會 新技術新產品發(fā)布會

“搭建國際采購貿易平臺、促進企業(yè)交流合作、提高參展效果”

                                                             ————將是我們的目標！

匯集最新的銷售訊息，結識來自國內和國際的高質量買家群；

了解未來的產品需求，獲得最新的市場發(fā)展訊息；

通過行業(yè)分工合作以及產業(yè)鏈需求尋求新的商業(yè)機會；

發(fā)布新技術、展示新產品的絕佳平臺，獲得市場推廣及品牌建設良機，提高行業(yè)認知度；

參加相關的論壇活動，獲悉行業(yè)發(fā)展趨勢、技術創(chuàng)新的最新資訊。

█展品范圍：

◆PCB光刻膠、LCD光刻膠和半導體光刻膠。PCB（干膜光刻膠、濕膜光刻膠以及光成像阻焊油墨）；LCD（彩色光刻膠、黑色光刻膠、觸摸屏光刻膠以及TFT-LCD光刻膠）；半導體（紫外光刻膠、深紫外光刻膠、極紫外光刻膠、電子束光刻膠、離子束光刻膠以及X射線光刻膠）等；

◆光刻材料： SOC、BARC/SiARC、光刻膠、TARC、Top Coating、稀釋劑、沖洗液、顯影液等；

◆光刻膠原材料（光引發(fā)劑/感光劑、樹脂、單體、溶劑、添加劑）等；

◆光刻膠專用試劑：稀釋劑/去邊劑、成膜劑、光敏劑、溶劑和添加劑、顯影液和剝離液等；

◆光刻技術、光刻膠與濕電子化學品、納米壓印、特種氣體、掩膜版與光刻材料與設備等；

◆設備：合成、純化、混合、過濾、光刻機、涂膠顯影設備以及后續(xù)的刻蝕、量測等設備；

█展會優(yōu)勢：

發(fā)布年度新品——百余家媒體競相直播報道，是企業(yè)發(fā)布年度新品的重要渠道

了解行業(yè)趨勢——作為行業(yè)“風向標”及“晴雨表”，第一時間展現市場動向及趨勢

維系重要客戶——這是業(yè)內人士都不會錯過的盛會，也是您會面維系老客戶，接待新客戶的好機會

參展、參觀詳情咨詢： 

咨詢熱線：021-34513031

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